Search
Search

연구성과물 검색 타이틀 이미지

HOME ICON HOME > Search by Achievements Type > Reports View

Reports Detailed Information

https://www.krm.or.kr/krmts/link.html?dbGubun=SD&m201_id=10007841&local_id=10011876
마이크로 전극을 이용한 Auditory Brainstem Implant를 위한 전기 자극 기법에 관한 연구
Reports NRF is supported by Research Projects( 마이크로 전극을 이용한 Auditory Brainstem Implant를 위한 전기 자극 기법에 관한 연구 | 2004 Year 신청요강 다운로드 PDF다운로드 | 홍성화(성균관대학교(자연과학캠퍼스)) ) data is submitted to the NRF Project Results
Researcher who has been awarded a research grant by Humanities and Social Studies Support Program of NRF has to submit an end product within 6 months(* depend on the form of business)
사업별 신청요강보기
  • Researchers have entered the information directly to the NRF of Korea research support system
Project Number H00043
Year(selected) 2004 Year
the present condition of Project 종료
State of proposition 재단승인
Completion Date 2006년 05월 29일
Year type 결과보고
Year(final report) 2006년
Research Summary
  • Korean
  • 기존의 많은 연구를 통하여 난청환자의 경우 cochlea내에 전극을 삽입하여 자극을 전달하는 cochlear implant 시스템이 상용화되어 많이 사용되어지고 있다. 그러나, NFII와 같이 auditory neuron에 종양이 생겨 신경을 손상되었을 경우에는 cochlear implant를 사용할 수 없다. 따라서, 뇌 임플란트를 위한 청각 뇌 자극 기법에 대한 연구는 지금까지는 연구되지 않는 새로운 연구 분야이다. 본 연구과제에서는 뇌에서 소리전달 경로 중 Brainstem의 한 부분인 청성하구의 뉴런의 소리자극에 대한 특성을 마이크로 전극을 이용한 파악하고, 청각 임플란트(implant)에 적용할 전기적 뇌 자극 기법을 위한 반응 특성을 연구하고자 한다.
    연구 내용으로서는 마이크로 전극을 이용하여 청성하구의 뉴런의 반응특성 측정 기법 및 분석기법 개발 하였고,
    다채널 마이크로 전극을 이용하여 청성하구의 뉴런의 톤(tone) 및 양측귀 자극(binaural stimuli)에 대한 반응특성 측정한다.
    본 연구 결과 청성하구에서 뉴럴반응을 측정하기 위한 동물준비 단계와 측정, 신호 분석법을 제시하였다. 뉴럴 신호는 spike를 측정하여, spike의 횟수를 측정하여 반응의 정도를 측정하였으며, 결과적으로 청성하구에서의 반응은 소리의 자극의 크기에 따라 비례하여 증가하였다. 고주파수 자극에 대해서는 청성하구의 깊은쪽에서 주요한 반응이 나타나고, 저주파수 자극에 대해서는 청성하구의 얕은쪽에서 주요한 반응이 나타났다. 톤자극의 세기가 커질수록 청성하구에서 나타나는 반응의 잠복기는 짧아졌다.
    또한, 톤자극의 세기가 커질수록 청성하구에서 나타나는 잠복기의 편차는 줄어드는 결과를 가져왔다.
    본 연구를바탕으로 brainstem의 청성하구의에서 청각 임플란트를 위한 전기 자극 기법에 대해서 기반적인 지식을 알 수 있다.
  • English
  • A cochlear implant is an implanted device, designed to produce useful hearing sensation to a person with sever to profound deafness by stimulation of the cochlear nerves inside the inner ear electroneurally. However, cochlear implants are not an option for those individuals whose deafness is caused by lesions beyond the cochlea such as a patient group with neurofibromatosis type 2. In this study, we investigate the characteristics of the responses to acoustic stimulation in the inferior colliculus for inferior colliculus implant system.
    We used the thin film micro electrode probe to record the neural responses in the inferior colliculus. The acoustic tone is presented as a stimulus. The analyzing methods for the neural responses is developed using matlab.
    As a result, the inferior colliculus has a tonotopicity map with laminae structures. The neural responses increase as increasing stimulation. Latency decreases as increasing stimulation, and the standard deviation of latency also decrease as increasing stimulus. Thus, the stimulation strategies in the inferior colliculus can be considered for implantations.
Research result report
  • Abstract
  • 기존의 많은 연구를 통하여 난청환자의 경우 cochlea내에 전극을 삽입하여 자극을 전달하는 cochlear implant 시스템이 상용화되어 많이 사용되어지고 있다. 그러나, NFII와 같이 auditory neuron에 종양이 생겨 신경을 손상되었을 경우에는 cochlear implant를 사용할 수 없다. 따라서, 뇌 임플란트를 위한 청각 뇌 자극 기법에 대한 연구는 지금까지는 연구되지 않는 새로운 연구 분야이다. 본 연구과제에서는 뇌에서 소리전달 경로 중 Brainstem의 한 부분인 청성하구의 뉴런의 소리자극에 대한 특성을 마이크로 전극을 이용한 파악하고, 청각 임플란트(implant)에 적용할 전기적 뇌 자극 기법을 위한 반응 특성을 연구하고자 한다. 마이크로 전극을 이용하여 청성하구의 뉴런의 반응특성 측정 기법 및 분석기법 연구하고, 다채널 마이크로 전극을 이용하여 청성하구의 뉴런의 복합톤(Complex tone) 및 양측귀 자극(binaural stimuli)에 대한 반응특성 연구한다.
    이를 바탕으로 brainstem의 청성하구의에서 청각 임플란트를 위한 전기 자극 기법에 대해서 고찰한다.


  • Research result and Utilization method
  • • 본 연구에서는 청성하구에서 뉴럴반응을 측정하기 위한 동물준비 단계와 측정, 신호 분석법을 제시하였음.
    • 뉴럴 신호는 spike를 측정하여, spike의 횟수를 측정하여 반응의 정도를 측정함.
    • 청성하구에서의 반응은 소리의 자극의 크기에 따라 비례하여 증가함.
    • 고주파수 자극에 대해서는 청성하구의 깊은쪽에서 주요한 반응이 나타나고, 저주파수 자극에 대해서는 청성하구의 얕은쪽에서 주요한 반응이 나타남.
    • 톤자극의 세기가 커질수록 청성하구에서 나타나는 반응의 잠복기는 짧아짐.
    • 톤자극의 세기가 커질수록 청성하구에서 나타나는 잠복기의 편차는 줄어드는 결과를 가져옴.

    • 본 연구는 음성 톤 자극에 대한 inferior colliculus에서의 뉴럴반응의 특성을 측정하였으며, 이는 inferior colliculus 임플란트를 위한 자극 방법을 제시함.
    • inferior colliculus 임플란트시 깊은쪽은 고주파 입력시 자극을 가하고, 저주파 입력시에서는 얕은쪽에 전기적인 자극을 가할 수 있음.
    • 입력되는 소리의 크기에따라서 전기적인 자극의 펄스도 많이 가해주어야 함.
    • 측정된 뉴럴반응의 잠복기의 특성을 반영하여 자극시에 잠복기를 고려해 주어야 함.
  • Index terms
  • 청성하구, 전기자극, 청각 임플란트
  • Examination field of requesting this research issues( The ranking of possible field is up to 3rd place)
  • 1Ranking : 복합학 > 뇌과학 > 인공청각
  • List of digital content of this reports
데이터를 로딩중 입니다.
  • This document, it is necessary to display the original author and you do not have permission
    to use copyrighted material for-profit
  • In addition , it does not allow the change or secondary writings of work
데이터 이용 만족도
자료이용후 의견
입력
트위터 페이스북
NRF Daejeon
(34113) 201, Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon, Korea
Tel: 82-42-869-6114 / Fax: 82-42-869-6777
NRF Seoul
(06792) 25, Heonreung-ro, Seocho-gu, Seoul, Korea
Tel: 82-2-3460-5500 / Fax: 82-2-3460-5759
KRM Help Center
Tel : 042-869-6086 Fax : 042-869-6580
E-mail : krmcenter@nrf.re.kr